Rodzina HiFocus to urządzenia generujące niezwykle mocno skompresowany, precyzyjny łuk plazmowy. W porównaniu ze zwykłymi plazmami konwencjonalnymi, technologia FineFocus diametralnie zmniejsza ukosowanie krawędzi oraz ilość powstającego żużla. Redukcja strefy wpływu ciepła i doskonała dynamika łuku pozwalają na wycinanie ostrych kątów, ciasnych promieni otworów i małych konturów, uzyskując precyzję zbliżoną do rozwiązań laserowych.

Prezentowane źródło dysponuje wysokim napięciem jałowym rzędu 400 V i zapłonem wysokiego napięcia (HV). W praktyce CNC oznacza to natychmiastowe, stabilne wygenerowanie łuku pilotującego oraz pewne, powtarzalne przejście w łuk główny. System doskonale radzi sobie z przebijaniem się przez grubą rdzę, zendrę, pozostałości farby czy zawirowania związane ze zmienną wysokością prześwitu głowicy na stole krzyżowym.

Kjellberg HiFocus wymaga dostarczenia zewnętrznej infrastruktury mieszania gazów. Źródło jest technologicznie gotowe do pracy zarówno z manualnymi stacjami gazowymi (takimi jak widoczne na zdjęciach stacje PGE 1-HM z ręcznymi przepływomierzami), jak i z zaawansowanymi, automatycznymi zaworami z rodziny FlowControl (PGC/PGV). Pozwala to nowemu nabywcy swobodnie zdecydować o stopniu skomplikowania (i budżecie) wdrażanego systemu gazów plazmowych i wirowych.

Agregat oddaje pełne 160 A przy stuprocentowym cyklu obciążenia czasowego. To krytyczny parametr dla wielkoformatowych wypalarek CNC. Brak konieczności stosowania przerw na stygnięcie inwertora pozwala na realizację długotrwałych, kilkugodzinnych projektów rozkroju na arkuszach grubości od 20 mm do 50 mm, bez ryzyka uszkodzenia modułów mocy.

Źródło nie służy jedynie do cięcia. Posiada precyzyjnie kalibrowany tryb pracy w dolnym zakresie od 4 do 25 A, przeznaczony do grawerowania / znakowania plazmowego. Umożliwia to procesom zautomatyzowanym nanoszenie znaczników montażowych, nazw części lub wytycznych do gięcia na arkuszu blachy bez konieczności zatrzymywania portalu czy przezbrajania palnika.